以開發(fā)更快速開關(guān)特性、更小型及兼具成本效益之"增強(qiáng)型氮化鎵場效應(yīng)晶體管"(eGaN® FET) 而聞名的宜普電源轉(zhuǎn)換公司 (EPC),又怎么看待氮化鎵 (GaN) 和碳化硅 (SiC) 的關(guān)系?EPC 首席執(zhí)行長及共同創(chuàng)辦人 Alexander Lidow 博士斷言,兩者市場幾乎很少重迭——氮化鎵技術(shù)和組件將主導(dǎo) 650V 以下應(yīng)用,而碳化硅將主導(dǎo) 900V 以上。至于 650~900V 之間的市場則會由氮化鎵、碳化硅及絕緣柵雙極晶體管 (IGBT) 分食。值得留意的是,氮化鎵組件采用橫向結(jié)構(gòu),因此所有電氣端子 (包括:柵極、汲極和源極) 都位于同一表面上,好處多多。
照片人物:EPC 首席執(zhí)行長及共同創(chuàng)辦人 Alexander Lidow 博士
氮化鎵的獨(dú)特:易于整合成為功率級 IC 且應(yīng)用廣泛
首先,是工程師更易于將多個氮化鎵功率組件、模擬和數(shù)字功能整合在一起;例如,EPC2152 單片式功率級半橋拓?fù)洌桶瑑蓚€功率場效應(yīng)晶體管 (FET),并集成了驅(qū)動器、電平移位元、自舉電路、保護(hù)電路和邏輯電路。這是碳化硅組件不可能企及的。其次,氮化鎵組件的核心市場主要是面向基于 650V 或具有更低阻斷電壓能力的功率組件應(yīng)用,市場種類很廣泛,而最大的應(yīng)用市場包括計(jì)算機(jī)和車載的 DC/DC 電源轉(zhuǎn)換、AC 適配器、計(jì)算機(jī)應(yīng)用的 AC/DC 轉(zhuǎn)換器、光達(dá) (LiDAR)、太陽能應(yīng)用、無線電源傳輸、馬達(dá)驅(qū)動器、小型醫(yī)療用設(shè)備和衛(wèi)星系統(tǒng)。
圖1:EPC 推出功率級集成電路——EPC2152
資料來源:EPC 提供
相對來說,碳化硅組件更專注于工業(yè)應(yīng)用,例如:大功率運(yùn)動控制、牽引驅(qū)動器和高壓 AC/DC 轉(zhuǎn)換器等。Lidow 認(rèn)為在未來幾年內(nèi),氮化鎵技術(shù)和組件的發(fā)展和增長將比碳化硅技術(shù)和組件更快速,這是因?yàn)榈壗M件可支持的各種應(yīng)用增長速度更快,且這些應(yīng)用的設(shè)計(jì)周期更短。此外,氮化鎵技術(shù)是光達(dá)系統(tǒng)背后的一項(xiàng)核心技術(shù),分眾市場遍及自駕車、卡車、機(jī)器人和無人機(jī);氮化鎵組件更是汽車 DC/DC 轉(zhuǎn)換器的優(yōu)選,尤其是用于處理自動駕駛功能的相關(guān)密集圖形系統(tǒng)。隨著自駕車和電動汽車越來越普及,氮化鎵日后爆發(fā)力可期。
eGaN FET 踩線硅基功率 MOSFET,惟氮化鎵 IC 設(shè)計(jì)難度高
身為氮化鎵先進(jìn)的 Lidow 博士,介紹氮化鎵技術(shù)將以兩種方式快速發(fā)展:一是氮化鎵組件的尺寸越來越小型化,在相同的功率處理能力下,氮化鎵組件已比 MOSFET 組件縮減 5~15 倍,但氮化鎵組件理論上最大性能,比它目前已實(shí)現(xiàn)的大 300 倍!二是氮化鎵組件易于整合,所以有越來越多的氮化鎵基功率 IC (集成電路) 出現(xiàn):Navitas 公司和 EPC 公司都是憑借最新氮化鎵 IC 而囊括廣泛的市場滲透率——Navitas 專注于小型 AC 適配器市場,EPC 則專注于高密度 DC/DC 轉(zhuǎn)換器和馬達(dá)驅(qū)動器。Lidow 亦分別就氮化鎵 IC 設(shè)計(jì)及制造做出點(diǎn)評。
圖2:EPC 應(yīng)用于飛時測距 (ToF) 的演示板——EPC9144
資料來源:EPC 提供
Lidow 指出,由于集成電路的技術(shù)比離散式晶體管更顯復(fù)雜,且氮化鎵技術(shù)仍不如硅技術(shù)般成熟,可整合的組件較少 (例如:電容器、電阻器、P 通道晶體管等),IC 設(shè)計(jì)人員必須比硅組件模擬設(shè)計(jì)具備更多關(guān)于氮化鎵組件的知識,且能依靠的自動化工具更少。所幸,氮化鎵組件可在硅晶圓廠中同時與硅晶圓進(jìn)行生產(chǎn),故 IC 制造工藝的挑戰(zhàn)不大;這些成熟的代工廠已坐擁制造高效、低成本氮化鎵 IC 所需的工具和條件。最后,Lidow 總結(jié) EPC 氮化鎵產(chǎn)品的差異化與競爭優(yōu)勢:
? 專注于最高功率密度、400V 以下的芯片級組件市場,且生產(chǎn)各種氮化鎵 IC 已逾六年以上;
? 相較于硅基功率 MOSFET 組件,EPC 公司的氮化鎵場效應(yīng)晶體管 (eGaN FET) 體積更小、開關(guān)更快、組件更可靠穩(wěn)固,且價格已逼近硅基功率 MOSFET 組件。
Lidow 說明,MOSFET 組件的性能已達(dá)理論極限,成為按價格出售的通用產(chǎn)品;反觀當(dāng)前組件性能已是硅組件數(shù)倍的氮化鎵,每天都還在進(jìn)步中。隨著新應(yīng)用青睞并采用更卓越的氮化鎵技術(shù),MOSFET 組件的增長已呈現(xiàn)放緩態(tài)勢。
圖3:集成電路的技術(shù)迥異于離散式晶體管,設(shè)計(jì)難度更高,而 EPC 的 GaN IC 處于業(yè)界領(lǐng)先地位
資料來源:EPC 提供